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上海新浪超高速大豆膠體研磨機(jī)適合于膠體溶液,超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,NK在摩擦狀態(tài)下工作,也就被稱(chēng)做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。NK2000整機(jī)采用幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
更新時(shí)間:2024-03-14
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上海新浪超高速大豆膠體研磨機(jī)
納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,是一種面向21世紀(jì)的新型高功能精細(xì)無(wú)機(jī)產(chǎn)品,表現(xiàn)出許多特殊的性質(zhì),如非遷移性、熒光性、壓電性、吸收和散射紫外線能力等,利用其在光、電、磁、敏感等方面的奇妙性能,可制造氣體傳感器、熒光體、變阻器、圖像記錄材料、壓電材料、壓敏電阻、高效催化劑、磁性材料和塑料薄膜等。
如果使用普通的分散設(shè)備,很難將納米氧化鋅分散均勻,會(huì)出現(xiàn)團(tuán)聚的現(xiàn)象,團(tuán)聚體難以打開(kāi),而如果采用CIK研發(fā)的分散設(shè)備,研磨分散機(jī)的話,先研磨后分散機(jī),解決團(tuán)聚問(wèn)題,可達(dá)納米氧化鋅還原至納米級(jí)。
上海新浪超高速大豆膠體研磨機(jī)是由膠體磨+分散機(jī)結(jié)合而成的設(shè)備,主要是為了解決納米級(jí)物料的分散,如:納米碳酸鈣、納米、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級(jí)物料的分散。
NKD2000系列研磨分散設(shè)備是上海新浪公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)
NKD2000系列的特點(diǎn):
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
型號(hào) | 流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 出/入口連接 |
NKD2000/4 | 700 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
NKD2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
NKD2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
NKD2000/20 | 20,000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
NKD2000/30 | 40,000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
NKD2000/50 | 80,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |