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Z理想的膏體生產(chǎn)設備-CIK可傾真空均質乳化機
點擊次數(shù):2293 更新時間:2017-03-29


  遮瑕膏可視作為粉底的一種。不同之處在于遮瑕膏比普通粉底具有更佳的遮蓋力,且更貼合肌膚,持久不易脫妝。每個人的臉上都會有這樣那樣的瑕疵,例如:黑眼圈、色斑、痘疤、局部性的斑點、痘痘、微血管等等,運用遮瑕膏能的解決這些問題,還能讓你的膚色迅速變得均勻、細致,還能持久地為彩妝加分,令你自信,無懼迎向挑剔的眼光,質地越豐潤的遮瑕膏,遮瑕效果越出眾。

針對這類基質粘度大,且固料含量比較高的膏類產(chǎn)品,切可(上海)機械設備有限公司引進*科技開發(fā)出CK-ME可傾真空均質乳化機,本機組由預處理鍋、真空乳化攪拌鍋、真空泵、液壓系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng),工作平臺等部分組成,本機組操作簡便、性能穩(wěn)定、均質性能號、生產(chǎn)率高、清洗方便、結構合理、占地面積少、自動程度化高等特點。

 

設備優(yōu)點:

1、采用上部同軸三重攪拌器,液壓升降開蓋;

2、攪拌器轉速都是變頻調控,快速均質攪拌器轉速為0-3500r/min,慢速刮壁攪拌器轉速為0-63r/min,均質器采用高剪切渦流式乳化攪拌機,慢速刮壁自動緊貼鍋底及鍋壁。

3、真空吸料,特別對粉體物料利用真空吸入避免粉塵飛揚。

4、整個工序在真空條件下進行,防止物料在高速攪拌后產(chǎn)生氣泡,能達到衛(wèi)生無菌要求;

5、本系統(tǒng)配有CIP信息系統(tǒng),容器與物料接觸部分采用SUS316L材料制造、內表面鏡拋光300EMSH;

6、為了提高設備的品質,真空泵及電器控制部分采用德國納西姆公司產(chǎn)品,變頻器采用日本松下電工;

7、本機組*符合GMP要求制造,是國內的膏類生產(chǎn)設備。

 

主要技術參數(shù):

型號

有效容量

乳化馬達

攪拌馬達

外形尺寸

總功率

KW

r/min

KW

r/min

全高

電加熱

蒸汽加熱

CK-ME-20

20

0.75

0-3000

0.37

0-40

1800

1600

1850

2700

9

3

CK-ME-50

50

2.2

0-3000

0.37

0-40

2700

2000

2015

2700

25

5

CK-ME-100

100

3

0-3000

1.5

0-40

2920

2120

2200

3000

27

9

CK-ME-150

150

3

0-3000

1.5

0-40

3110

2120

2200

3100

27

9

CK-ME-200

200

4

0-3000

1.5

0-40

3150

2200

2200

3100

40

12

CK-ME-350

350

4

0-3000

2.2

0-40

3650

2650

2550

3600

50

16

CK-ME-500

500

5.5

0-3000

2.5

0-40

3970

2800

2700

3950

50

16

CK-ME-1000

1000

11

0-3000

4

0-40

3900

3400

3150

4550

100

30

CK-ME-2000

2000

15

0-3000

7.5

0-40

4850

4300

3600

不帶升降

120

50

 

售前與售后服務:

1.所有由我公司提供的設備,我們將負責安裝調試驗收至產(chǎn)品合格、設備正常驗收,進入生產(chǎn);

 

2.親自上門提供正常的設備操作培訓,為需方培訓多名工程技術人員,全面掌握生產(chǎn)工藝、設備日常維護、故障及生產(chǎn)管理;

 

3.所提供設備培訓均保修一年(在保修期內除需方因操作不當造成的原因外,所有因設備維修所發(fā)生的維修費用均由我公司負責 )

 

4.我公司在接到維修報告后,無特殊情況,本市多十小時,全國多四十八小時到達現(xiàn)場;

 

5.終身維護,在保質期外,如有設備故障,我公司可派人來服務,維修零配件和其他不高于市場價格;

 

6.我公司將長期為顧客提供的制造工藝、技術革新、市場動態(tài)等同類行業(yè)的情報信息;

 

7.購買設備前我們將提供咨詢支持,也歡迎前來參觀我們的工廠。